“修改”面板 > 进行选择。 > “修改器列表” > “对象空间修改器” > “位移”
进行选择。 > “修改器”菜单 > “参数化变形器” > “位移”
“位移”修改器以力场的形式推动和重塑对象的几何外形。 可以直接从修改器 Gizmo 应用它的变量力,或者从位图图像应用。
位移空间扭曲有相似的特征。 将效果应用于大量对象或者粒子系统时,这很有用。
位移将它的力在四个不同的 Gizmo 上分布: 平面、圆柱形、球形和收缩包裹。 Gizmo 也用作应用位图时的贴图坐标。 “球体”和“收缩包裹”在建模时有同样的效果,但是在贴图方式上不同。
“球形”和“收缩包裹” Gizmo 开始时在它们周围有相同字段。 “圆柱体”和“平面” Gizmo 都是定向的。 “圆柱体”以直角推向它的轴,“平面”以直角推向它的面。
取决于对象和位图的复杂度,可能需要使用密集几何体来清楚地查看效果。 做一次测试运行,如果需要的话,在最大细节的区域添加细分。
在获得位图位移中所需图像后,可以应用优化修改器以在保留细节的同时减少几何体的复杂度。

强度 —设置为 0.0 时,“位移”没有任何效果。 大于 0.0 的值会使对象几何体或粒子按偏离 Gizmo 所在位置的方向发生位移。 小于 0.0 的值会使几何体朝 Gizmo 位移。 默认设置为 0.0。
默认情况下,“位移”在整个世界空间中有同样的强度。 增加“ 衰退”值会导致位移强度从“位移” Gizmo 的所在位置开始随距离的增加而减弱。 这具有集中 Gizmo 附近力场的效果,类似于磁体附近的场,磁体是异性相斥的。 默认设置为 0.0。
亮度中心 —决定“位移”使用什么层级的灰度作为 0 位移值。
默认情况下,通过使用中等( 50% )灰度作为 0 位移值,“位移”以亮度为中心。 大于 128 的灰色值以向外的方向(背离位移 Gizmo )进行位移,而小于 128 的灰色值以向内的方向(朝向位移 Gizmo )进行位移。 使用“中心”微调器来调整默认值。 利用平面投影,可以将位移后的几何体重新定位在平面 gizmo 的上方或下方。 默认值为 0.5。 范围为 0 至 1.0。

包含位图位移的贴图参数。 请参见 UVW 贴图修改器。
4 种贴图模式控制着位移对其位移进行投影的方式。 “位移” Gizmo 的类型和在场景中位置决定最终效果。
柱形 —像将其环绕在圆柱体上那样对贴图进行投影。 启用“封口”可以从圆柱体的末端投射贴图副本。
球形 —从球体出发对贴图进行投影,球体的顶部和底部,即位图边缘在球体两极的交汇处均为奇点。
收缩包裹 —从球体投射贴图,像“球形”所作的那样,但是它会截去贴图的各个角,然后在一个单独的极点将它们全部结合在一起,在底部创建一个奇点。
长度、宽度、高度 —指定“位移” Gizmo 的边界框尺寸。 高度对平面贴图没有任何影响。
U/V/W 向平铺 —设置位图沿指定尺寸重复的次数。 默认值 1.0 对位图执行只一次贴图操作,数值 2.0 对位图执行两次贴图操作,依此类推。 分数值会在除了重复整个贴图之外对位图执行部分贴图操作。 例如,数值 2.5 会对位图执行两次半贴图操作。
指定是否将位移投射应用到贴图通道或者顶点颜色通道,并决定使用哪个通道。 关于这些通道的详细信息,请参见 UVW 贴图修改器。